革新的製造プロセス技術開発（ミニマルファブ）
府省庁: 経済産業省
事業番号: 0382
担当部局: 製造産業局 産業機械課
事業期間: 2012年〜2014年
会計区分: エネルギー対策特別会計エネルギー需給勘定
実施方法: 委託・請負
事業の目的
既存の半導体製造施設は大量生産を前提としており、世界の半導体需要の半分程度を占める少量生産品も、メモリ等の大量生産品と同様の生産システムで生産されており、エネルギー消費や設備投資額の面で非効率が生じている。
本事業では、クリーンルームを不要とすることにより大幅な省エネが実現できる｢革新的製造プロセス｣の基礎的技術を開発し、我が国の半導体開発や少量生産の半導体を用いる製品等の製造の競争力維持・強化を図るとともに、半導体製造工程におけるエネルギー消費の削減を実現する。
事業概要
平成24年度から平成26年度までの3年間で、シリコンウェハサイズを0.5インチ（直径12.5㎜）、製造装置サイズを幅30cm×奥行き45cm×高さ144cmに規格化された、半導体の少量生産に最適な超小型製造装置（ミニマルファブ）を開発し、生産システムとして一体的に利用できる体制を構築する。
予算額・執行額
※単位は100万円
| 年度 | 要求額 | 当初予算 | 補正予算 | 前年度から繰越し | 翌年度へ繰越し | 予備費等 | 予算計 | 執行額 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2012 | - | 650 | 0 | 0 | 0 | 0 | 650 | 650 |
| 2013 | - | 699 | 2,500 | 0 | 0 | 0 | 699 | 699 |
| 2014 | - | 0 | 0 | 2,500 | 0 | 0 | 2,500 | 2,500 |
成果目標及び成果実績（アウトカム）
平成29年度末にフルセットのミニマルファブの完成を目標とし、平成32年度末に41ファブ設置することにより、年間８９１GWｈの消費電力を削減する。
省エネ効果（年間） （目標：2020年度に891 ）
| 年度 | 当初見込み | 成果実績 |
|---|---|---|
| 2012 | - | - |
| 2013 | - | - |
| 2014 | - | - |
活動指標及び活動実績（アウトプット）
製造したミニマル装置の数（試作機を含む累積数）
| 年度 | 当初見込み | 活動実績 |
|---|---|---|
| 2012 | 10 台 | 11 台 |
| 2013 | 27 台 | 31 台 |
| 2014 | 100 台 | 105 台 |
主要な支出先
| 年度 | 支出先 | 業務概要 | 支出額（百万円） |
|---|---|---|---|
| 2014 | ミニマルファブ技術研究組合 | (1)装置開発、(2)装置構成部品・ウェハ開発、(3)ミニマルプロセス・ライン開発、(4)分析・評価装置開発技術開発、及びプロジェクト管理 | 2,500 |
| 2014 | 国立大学法人横浜国立大学 | CVDプロセス開発 | 14 |
| 2014 | 国立大学法人東北大学 | ミニマルプラズマプロセス開発 | 4 |
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