次世代パワーエレクトロニクス技術開発プロジェクト

府省庁: 経済産業省

事業番号: 0415

担当部局: 産業技術環境局 商務情報政策局 研究開発課 情報通信機器課

事業期間: 2013年〜2019年

会計区分: エネルギー対策特別会計エネルギー需給勘定

実施方法: 交付

事業の目的

 省エネの切り札とも言えるパワーエレクトロニクスについて、本事業では、パワー半導体の性能限界突破や新材料パワー半導体を駆使したアプリケーションへの応用開発を行い、現状技術の延長線上では電力変換器等のパワーエレクトロニクス機器が大型化したり、コスト高となるなど適用範囲を更に拡大し、飛躍的な省エネ化の実現が困難な状況を打開する。

事業概要

 本事業では、以下について行う。
  ①SiCパワー半導体について、結晶・ウェハから素子開発、電力変換器設計等まで一貫した取り組むによる実用化の加速。(平成26年度終了)   ②新材料パワー半導体をアプリケーションに適用するため、モジュール化のための材料、設計技術、実装技術等の開発、開発したモジュール等を適用し    たシステムの試作、動作実証等からなる応用開発。   ③Siパワー半導体に革新的な手法を用いることによる、現状のSiパワー半導体の性能限界突破。   ④高い電気的特性を有するGaNをパワー半導体として応用するための技術開発。  (補助率:2/3、1/2)

予算額・執行額

※単位は100万円

年度要求額当初予算補正予算前年度から繰越し翌年度へ繰越し予備費等予算計執行額
2013-1,9800002202,0222,022
2014-4,5000178004,4034,403
2015-2,50000002,500-
20162,750-------
Created with Highcharts 7.1.1百万円要求額当初予算補正予算前年度から繰越し翌年度へ繰越し予備費等予算計執行額201320142015201601k2k3k4k5kHighcharts.com

成果目標及び成果実績(アウトカム)

平成42年度までに、Siパワー半導体からSiCパワー半導体に置き換えることによるCO2排出量1,511万トンの削減 ※中間評価等において目標値の検証を行う

Siパワー半導体からSiCパワー半導体に置き換えることによるCO2排出削減量 (目標:2030年度に1511 万t)

年度当初見込み成果実績
2013- 万t- 万t
2014- 万t- 万t

平成26年度までに、エピタキシャル膜に対し、均一度:厚さ±2%の品質を実現

エピタキシャル膜に対する均一度:厚さ (目標:2014年度に2 %)

年度当初見込み成果実績
2013- %2.2 %
2014- %2 %

平成28年度までに、試作するSiC-MOSFETの耐圧が6.5kV以上 ※平成28年度に中間目標の達成状況を確認

試作するSiC-PiNダイオードの耐圧 (目標:2016年度に6.5 kV)

年度当初見込み成果実績
2013- kV- kV
2014- kV6.5 kV

平成28年度までに、試作する用途を最適化した次世代モジュールにおいて製品コスト30%減の目途付け ※平成28年度に中間目標の達成状況を確認

試作する用途の設定件数 (目標:2016年度に30 %)

年度当初見込み成果実績
2013- %- %
2014- %2 %

平成28年度までに、従来のSiパワー半導体と昇圧コンバータを用いた電動システムに対してPCU部の損失が1/3以下 ※平成28年度に中間目標の達成状況を確認

試作SiCモジュールのSi-IGBTに対する損失評価 (目標:2016年度にNone %)

年度当初見込み成果実績
2013- %- %
2014- %- %

平成28年度までに、試作するSi-IGBTの耐圧が1,000V以上 ※平成28年度に中間目標の達成状況を確認

試作するSi-PiNダイオードの耐圧 (目標:2016年度に1000 V)

年度当初見込み成果実績
2013- V- V
2014- V1000 V

活動指標及び活動実績(アウトプット)

新材料パワー半導体に係る応用開発及びSiパワー半導体の限界突破に係る提案の採択件数(累計)

年度当初見込み活動実績
20132 件2 件
20146 件6 件

主要な支出先

年度支出先業務概要支出額(百万円)
2014国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構プロジェクト管理4,403
2014技術研究組合次世代パワーエレクトロニクス研究開発機構高品質・大口径SiC結晶成長技術開発、大口径SiCウエハ加工技術開発、SiCエピタキシャル膜成長技術、SiC高耐圧スイッチングデバイス製造技術1,423
2014富士電機株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発531
2014三菱電機株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発474
2014国立大学法人東京工業大学新世代Siパワーデバイス技術開発460
2014国立大学法人東京大学新世代Siパワーデバイス技術開発397
2014ファインセラミックス技術研究組合高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発395
2014新日鐵住金株式会社高品質・大口径SiC結晶成長技術開発200
2014日本ファインセラミックス株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発166
2014技術研究組合次世代パワーエレクトロニクス研究開発機構高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発139
2014株式会社デンソー次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発69
2014国立大学法人九州大学新世代Siパワーデバイス技術開発46
2014国立研究開発法人産業技術総合研究所新世代Siパワーデバイス技術開発45
2014学校法人明治大学新世代Siパワーデバイス技術開発29
2014国立大学法人九州工業大学新世代Siパワーデバイス技術開発29
2014株式会社三菱総合研究所パワーエレクトロニクスの市場動向及び技術開発動向等に関する検討22
2014国立大学法人東京大学次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発20
2014国立大学法人大阪大学次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発20
2014公立大学法人首都大学東京新世代Siパワーデバイス技術開発14
2014DOWAエレクトロニクス株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発14
2014一般財団法人電力中央研究所高品質・大口径SiC結晶成長技術開発13
2014国立大学法人東京工業大学高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発10
2014一般社団法人日本ファインセラミックス協会高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発10
2014国立大学法人名古屋大学高品質・大口径SiC結晶成長技術開発8
2014学校法人早稲田大学次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発6
2014国立大学法人九州工業大学次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発6
2014電気化学工業株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発6
2014アレントジャパン株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発6
2014株式会社コージン次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発4
2014NRIサイバーパテント株式会社パワーエレクトロニクス技術の特許等の動向に関する検討4
2014東京エレクトロンデバイス株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発4
2014日本軽金属株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発4
2014DOWAメタルテック株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発4
2014富士電機エフテック株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発4
2014国立研究開発法人産業技術総合研究所次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発3
2014アルプス・グリーンデバイス株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発3
2014東京エレクトロン株式会社次世代パワーエレクトロニクス応用システム開発2
2014国立研究開発法人物質・材料研究機構高品質・大口径SiC結晶成長技術開発1

レビューシートを開く

構想日本
日本大学尾上研究室
Visualizing.JP
特定非営利活動法人Tansa
JUDGIT! Chrome、Firefox、Safari、Edgeの
最新バージョンをご利用ください