ギガフォトン株式会社
※2015〜2019年度
件数 | 9 |
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総支出額(百万円) | 1,233 |
府省庁 | 事業名 | 年度 | 業務概要 | 支出額(百万円) |
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経済産業省 | 革新的な省エネルギー技術の開発促進事業(旧:戦略的省エネルギー技術革新プログラム) | 2015 | 高効率LPP法EUV光源の実証開発 | 573 |
経済産業省 | 革新的な省エネルギー技術の開発促進事業 | 2017 | 高繰返し高出力ハイブリッドArFエキシマレーザの開発 | 173 |
経済産業省 | 高効率・高輝度な次世代レーザー技術の開発事業 | 2016 | ④共通基盤技術開発 | 150 |
経済産業省 | 高効率・高輝度な次世代レーザー技術の開発事業 | 2018 | ④共通基盤技術開発 | 119 |
経済産業省 | 高効率・高輝度な次世代レーザー技術の開発事業 | 2017 | ④共通基盤技術開発 | 118 |
経済産業省 | 高効率・高輝度な次世代レーザー技術の開発事業 | 2020 | ④共通基盤技術開発 | 48 |
経済産業省 | 高効率・高輝度な次世代レーザー技術の開発事業 | 2019 | ④共通基盤技術開発 | 39 |
経済産業省 | 国際研究開発事業 | 2020 | 波長1485nm帯固体レーザ増幅器を使った半導体露光用深紫外シードレーザの研究開発 | 10 |
経済産業省 | 国際研究開発事業 | 2019 | 波長1485nm帯固体レーザ増幅器を使った半導体露光用深紫外シードレーザの研究開発 | 3 |