次世代型超低消費電力デバイス開発プロジェクト

府省庁: 経済産業省

事業番号: 0285

担当部局: 産業技術環境局 商務情報政策局 研究開発課 情報通信機器課

事業期間: 2013年〜2015年

会計区分: エネルギー対策特別会計エネルギー需給勘定

実施方法: 交付

事業の目的

ビッグデータ時代を迎え、サーバー等のIT機器の消費電力量は飛躍的に増大しており、また現在の逼迫した電力需給と相まって、当該分野の省エネ化は喫緊の課題。本事業では、半導体回路の微細化や、ロジック集積回路と共存可能な新たな機能材料やデバイス構造に基づく超低電圧・不揮発動作デバイス技術、材料・プロセス技術等の開発を行い、IT機器の消費電力の大幅な低減を目指し、低炭素社会の実現に寄与する。

事業概要

本事業は以下の革新的な微細化、低電圧化技術により、IT機器の大幅な低消費電力化・小型化・高性能化と低電圧駆動化を実現する。
①EUV(極端紫外線)による微細化・低消費電力技術開発  次世代のEUV露光システムに必要なマスク及びレジスト材料に係る加工・評価基盤技術等を確立。10nm台以細の半導体の製造を可能とし、IT機器の大幅な低消費電力化・小型化・高性能化を実現。 ②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発  新構造・材料による低電圧化を実現するための次世代デバイスの基盤技術を確立、0.4Vの超低電圧化を実現。

予算額・執行額

※単位は100万円

年度要求額当初予算補正予算前年度から繰越し翌年度へ繰越し予備費等予算計執行額
2013-3,3000002493,4643,464
2014-4,19708504764,7364,736
2015-2,00002202952,3172,317
Created with Highcharts 7.1.1百万円要求額当初予算補正予算前年度から繰越し翌年度へ繰越し予備費等予算計執行額20132014201501k2k3k4k5kHighcharts.com

成果目標及び成果実績(アウトカム)

②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発 ⅰ半導体デバイスの駆動電圧:0.4V

①EUV(極端紫外線)による微細化・低消費電力技術開発 ⅰマスクブランク欠陥 検出感度 ⅱマスクパターン欠陥 検出感度 ⅲレジスト材料 対応線幅 (目標:2015年度に11 nm)

年度当初見込み成果実績
2013- nm16 nm
2014- nm11 nm
2015- nm11 nm

②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発 ⅱ超格子メモリを用いたメモリシステムの動作電力:66mW、平成27年度 33mW

②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発 ⅰ半導体デバイスの駆動電圧 (目標:2014年度に0.4 V)

年度当初見込み成果実績
2013- V- V
2014- V0.4 V
2015- V- V

②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発 ⅲナノカーボン配線で実現するシート抵抗の値:3Ω/□

②革新的な次世代型低消費電力デバイス開発 ⅱ超格子メモリを用いたメモリシステムの動作電力 (目標:2015年度に33 mW)

年度当初見込み成果実績
2013- mW- mW
2014- mW66 mW
2015- mW33 mW

活動指標及び活動実績(アウトプット)

本事業で確立を目指す技術の実用化に向けて、事業期間中に特許出願につながった成果の件数(特許出願件数)

年度当初見込み活動実績
201320 件63 件
201420 件58 件
201520 件70 件

主要な支出先

年度支出先業務概要支出額(百万円)
2014国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構プロジェクトマネジメント業務4,736
2014超低電圧デバイス技術研究組合低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト2,331
2015国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構プロジェクトマネジメント業務2,317
2014株式会社EUVL基盤開発センター次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発(共同研究)1,602
2015株式会社先端ナノプロセス基盤開発センター次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発1,000
2014株式会社EUVL基盤開発センター次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発(委託)705
2015株式会社先端ナノプロセス基盤開発センター次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発642
2015株式会社東芝低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト493
2015株式会社日立製作所低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト96
2014株式会社荏原製作所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発45
2014レーザーテック株式会社次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発22
2015レーザーテック株式会社次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発22
2015株式会社荏原製作所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発22
2015東邦エンジニアリング株式会社次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発20
2015みずほリサーチ&テクノロジーズ株式会社低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト19
2014兵庫県立大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発8
2015兵庫県公立大学法人次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発8
2015東京エレクトロン株式会社低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト8
2015国立大学法人東海国立大学機構次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発6
2014学校法人東京理科大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2014国立大学法人京都大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2014国立大学法人大阪大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2015学校法人東京理科大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2015国立大学法人大阪大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2015国立研究開発法人産業技術総合研究所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2014株式会社工業市場研究所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発5
2014国立大学法人名古屋大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2014国立大学法人東京工業大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発4
2014学校法人芝浦工業大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2014学校法人慶應義塾低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2014国立研究開発法人産業技術総合研究所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発4
2014国立研究開発法人産業技術総合研究所低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2015学校法人芝浦工業大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2015慶應義塾低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト4
2014国立大学法人東京大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト3
2014国立大学法人大阪大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発3
2015国立大学法人東京工業大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発3
2015国立大学法人大阪大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発3
2015国立研究開発法人産業技術総合研究所次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発3
2015国立研究開発法人産業技術総合研究所低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト3
2015株式会社荏原製作所低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト3
2014国立大学法人筑波大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト2
2014国立大学法人東京大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト2
2015学校法人東京工芸大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト2
2015国立大学法人京都大学次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発2
2014学校法人芝浦工業大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2014学校法人慶應義塾低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2014国立大学法人東京大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2014国立大学法人京都大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2014国立大学法人大阪大学低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2014国立研究開発法人産業技術総合研究所低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト1
2015国立大学法人東北大学0

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